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    X熒光光譜儀的鍍層檢測(cè)

    發(fā)布時(shí)間:2022-12-01 08:53:27         點(diǎn)擊:4442

           X熒光光譜儀利用X熒光射線的反射強(qiáng)度,判定樣品中物質(zhì)組成,但同時(shí),X熒光光譜儀也可以對(duì)樣品表面的鍍層厚度進(jìn)行檢測(cè)分析。

           當(dāng)樣品很薄時(shí),比如鍍層樣品,樣品中被激發(fā)的X射線熒光可能會(huì)穿透鍍層,鍍層的厚薄會(huì)影響X射線熒光信號(hào)的強(qiáng)弱,鍍層越厚,鍍層中被激發(fā)的X射線熒光信號(hào)就越強(qiáng)。

           當(dāng)鍍層的厚度或鍍層的成分發(fā)生變化時(shí),X射線熒光的信號(hào)會(huì)隨之變化。通過(guò)建立鍍層厚度和成分與X射線信號(hào)強(qiáng)度的關(guān)聯(lián)關(guān)系,就可以分析鍍層的厚度和成分。

           鍍層是通過(guò)電鍍?cè)跈C(jī)械制品上沉積出附著良好的,但性能和基體材料不同的金屬覆層。電鍍層一般都比較薄,從幾十納米到幾十微米不等。通過(guò)電鍍,可以再機(jī)械制品上獲得裝飾保護(hù)性和各種功能性的表面層,還可以修復(fù)磨損和加工失誤的工件,鍍層厚度測(cè)量已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測(cè)的重要一環(huán),是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的必備手段。金屬鍍層通常按鍍層的用途可把鍍層分為三大類,即防護(hù)性鍍層,防護(hù)一裝飾性鍍層和功能性鍍層。

    X熒光光譜儀的鍍層檢測(cè)

    X熒光光譜儀的鍍層檢測(cè)

           X射線熒光光譜分析可以非破壞性同時(shí)完成組分和厚度測(cè)試,厚度的測(cè)量范圍視材料和元素而定,通常在1nm-50um之間。X射線熒光光譜法分析鍍層與其常規(guī)定量分析法相比較,被測(cè)元素的特征X射線熒光強(qiáng)度不僅與鍍層中待測(cè)元素和基材的組成有關(guān),而且與厚度直接相關(guān)。

           能量色散X射線熒光光譜分析相對(duì)其他分析方法,具有無(wú)需對(duì)樣品進(jìn)行特別的化學(xué)處理、快速,方便,測(cè)量成本低等明顯優(yōu)勢(shì),特別適合用于各類相關(guān)企業(yè)作為過(guò)程控制和檢測(cè)使用。是目前應(yīng)用較為廣泛,具有速度快、無(wú)損化以及可實(shí)現(xiàn)多鍍層同時(shí)分析等特點(diǎn)。
     

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